中国女排憾负塞尔维亚 遭遇4连败

在报名条件方面，《通知》指出，凡符合下列条件之一且未在2025年报名的考生，可补报名参加我市2026年中考：具有我市初中学籍的2026年初中应届毕业生；具有我市户籍在外地就读的2026年初中应届毕业生；具有我市户籍的初中往届毕业生；我市初中学校毕业的非本市户籍往届毕业生。符合下列条件之一者，可报名参加我市2026年中考地理、生物科目及2027年其他科目考试：具有我市初中学籍的2026年初中二年级在校生；具有我市户籍在外地就读的2026年初中二年级在校生。通知明确，初三考生补报名时间为3月9日10:00至12日17:30，初二考生报名时间为3月13日10:00至16日17:30。

在考试科目及分值方面，《通知》明确，2026年初三应届毕业生考试共12科：语文、数学、英语、物理、化学、历史、道德与法治、体育、英语听说、物理实验操作、化学实验操作、生物实验操作；未在我市参加地理、生物科目考试的考生和往届毕业生需增加地理、生物科目考试。2026年初二考生考试共2科：地理、生物。

2026年计入高中阶段学校招生录取分值如下：语文、数学、英语各120分(其中英语笔试90分、听说考试30分)，物理100分（含实验操作10分），化学（含实验操作8分）、历史各80分，道德与法治60分，地理、生物（含实验操作4分）各40分，体育90分，10科总分共850分。

《通知》还对报名流程进行了详细说明。报名分领取准考证号和密码、网上报名、电子摄像、报名缴费、签名确认五个流程。需要注意的是，2026届考生在中考地理、生物科目考试后进行转学的可以在转入学校所在考点参加我市今年中考，考号不变，生源属于转入学校，转入学校必须在市中考报名系统中办理有关转学转考申请并经转出学校审核同意。考生在转出学校所缴交考试费不划转，转入学校不得再向考生收取考试费。

此外，在我市取得地理、生物科目学业考试成绩后，因身体原因经批准休学的考生，原地理、生物科目学业考试笔试成绩按照权重比例计入2026年中考总成绩。2025年在我市参加过地理和生物科学业考试的应届生，不得再报名参加2026年地理和生物科学业考试。2025年初二期间已在我市报名的考生，如果自动放弃参加我市2026年中考其他各科目学业考试，考试费不予退还。

外省户籍进城务工人员随迁子女在我市就读初级中学并参加我市中考的，可报读我市高中阶段学校，高中阶段学校毕业后需要在我市参加高考的，要符合我省当年高考报名条件，不符合我省高考报名条件的，需回户籍地参加高考。根据《广东省华侨权益保护条例》，华侨学生可以在其父母出国前或者其祖父母、外祖父母户籍所在地参加高中阶段的招生考试，与当地户籍学生享受同等待遇。我市初中学校毕业的非本市户籍往届毕业生，由原初中毕业学校（以广东省九年义务教育证书为准）所在地的县（市、区）招生办负责安排此类考生的中考报名工作。

梅州日报记者：吴海清

编辑：罗欢欢

审核：蔡颜颜

全链条保障攻克技术难关

面对大型800t/d熔窑调整的难题，项目推进获得了多重组织保障。耀华集团派出工艺技术专业团队驻厂指导，深入一线参与工艺评审并提出关键建议；公司管理层全程跟进，建立“日调度、周总结” 机制，领导多次亲临现场督导，协调资源、打通堵点，及时解决人员调配、物料供应、能源保障等问题。

与时间赛跑、与细节较真。改色关键阶段，生产团队开启“自愿驻厂、日夜坚守” 模式，熔联中控室内，技术人员紧盯熔窑温度曲线，严格执行制定的工艺参数制度，确保大吨位熔窑生产颜色玻璃的熔化质量；设备维护团队化身 “产线医生”，手持红外测温仪与振动检测仪，在机组间穿梭，对传动辊道、风机系统、电加热元件进行动态巡检，消除潜在隐患。

此次金茶玻璃的成功下线，不仅是一次成功的颜色切换，更是对晶华玻璃整个生产体系综合能力的一次全面检验。以此为起点，晶华玻璃将继续围绕高端玻璃制造方向，持续优化工艺与设备，推动产品结构升级。

本文将从技术原理、核心优势、应用场景及落地实践等方面，对该技术进行系统性解析。

一、先进工艺节点的检测挑战与技术缺口

当前半导体制造技术正经历关键变革：鳍式场效应晶体管逐步被全环绕栅极（GAA）纳米带晶体管替代，中段制程（MOL）因多重图形化技术的应用，堆叠复杂度持续增加。这一变革导致致命缺陷多隐匿于 3D 结构内部，传统光学检测手段难以有效识别。

同时，先进工艺节点的缺陷呈现显著的产品特异性，集中分布于特定工艺 - 版图组合的 “热点区域”，此类缺陷由芯片设计固有的版图特征引发，成为影响良率的核心因素。

行业面临的核心矛盾在于：电子束电压衬度检测是识别电学缺陷的关键技术，但传统电子束检测采用光栅扫描模式，效率远低于光学检测，无法匹配大批量生产的需求。DirectScan 技术的出现，为破解这一矛盾提供了可行路径。

二、DirectScan 核心技术架构：PointScan 的创新逻辑

DirectScan 检测方案由eProbe 电子束检测工具、FIRE GDS 版图分析平台及Exensio 大数据智能分析平台三大核心组件构成，其技术突破的核心在于PointScan 扫描技术对传统电子束检测逻辑的重构，主要体现在以下三方面：

1

设计感知驱动的靶向检测

传统电子束检测采用无差别光栅扫描，需覆盖包括介质区域在内的全部区域，且无法识别被测目标的图形特征；PointScan 技术具备非接触式电学测试特性，可精准跳转至目标器件的关键位置（如焊盘、接触点），仅对有效检测区域实施电压衬度检测，完全规避介质区域的无效扫描，实现 “按需检测”。

2

检测效率的量级提升

通过 FIRE 平台的精细化版图分析，可精准筛选出需检测的 “关键区域”，大幅缩减检测范围：

后段制程金属 3 层通孔检测：仅需扫描总可检测面积的 2.5%

中段制程栅极 - 漏极短路检测：仅需扫描总接触点的 1%

栅极残筋检测：可规避 50%-75% 的介质区域，检测面积缩减至传统方案的 10% 以下

基于上述优化，PointScan 技术的检测吞吐量可达传统单束电子束检测设备的 20-100 倍，每小时可完成数十亿个被测器件的扫描。

3

设计感知学习与属性分析能力

DirectScan 与 FIRE 平台的深度整合，可实现跨多层版图的属性提取，包括触点类型（漏极 / 栅极）、晶体管阈值电压、极性、与扩散区隔离槽的距离等关键参数。

eProbe 输出的 KLARF格式数据含专属属性识别码，可与版图特征精准匹配，工程师可直接计算特定属性或属性组合对应的缺陷率，快速定位高风险晶体管类型与版图设计方案，为工艺优化提供数据支撑。

三、高难度场景的应用突破

PointScan 技术的低电荷沉积特性，使其在传统电子束检测难以覆盖的场景中实现突破：

背侧供电网络（BSPDN）晶圆检测

键合晶圆形成的绝缘层会阻碍电荷传导，导致传统电子束检测出现电荷累积、电子束偏折与失焦问题；PointScan 技术大幅降低单位面积电荷沉积量，有效缓解上述问题，已完成实际应用验证。

3D DRAM检测

3D DRAM 的结构特性同样易引发电荷累积，此前检测难度较高，DirectScan 技术的应用使该类器件的精准检测成为可能。

DRAM 阵列短路检测

独有的可控 “充电 - 检测” 功能，可在指定位置施加电荷后跳转至目标区域采集电压衬度信号，使特定岛状节点呈现高亮状态，清晰识别与浮空相邻触点的短路问题，该功能为传统光栅扫描技术所不具备。

四、行业落地实践与全流程应用

自 2022 年初起，eProbe 检测系统已在多家先进逻辑芯片制造工厂落地，目前两套设备投入大批量生产，第三套设备处于产能爬坡阶段，应用场景覆盖半导体制造全流程：

先进逻辑芯片制造

中段制程：GAA 栅极 - 漏极短路、栅极接触孔开路、栅极外延层 / 硅化物层开路检测

后段制程：M0 层、1X 层、2X 层系统性接触孔开路与金属布线短路检测

背侧供电网络：电源通孔、源极 / 漏极通孔接触孔开路与短路检测

随机逻辑电路漏电情况评估

先进 DRAM 制造（2024-2025 年）

外围电路：栅极 - 栅极残筋短路、栅极 - 漏极短路、字线 - 字线短路与开路检测及缺陷定位

存储阵列：基于可控 “充电 - 检测” 技术的存储节点短路检测

技术总结

在半导体制程向更精密 3D 架构演进的背景下，检测技术的创新成为保障良率的关键。DirectScan 方案通过 PointScan 靶向扫描技术、设计感知分析能力与产品特异性缺陷学习功能的融合，在保留电子束检测高灵敏度的基础上，实现了检测吞吐量的量级提升，同时破解了高难度场景的检测难题。

该技术不仅解决了先进工艺节点下缺陷“难识别、难检测” 的问题，更推动半导体检测从 “缺陷识别” 向 “工艺优化赋能” 升级，为下一代半导体制造提供了核心技术支撑和全新路径。